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1.
掺杂是调控金刚石性能的一种重要手段。本文采用温度梯度法,在5.6 GPa、1 312 ℃的条件下,选用Fe3P作为磷源进行磷掺杂金刚石大单晶的合成。金刚石样品的显微光学照片表明,随着Fe3P添加比例的增加,金刚石晶体的颜色逐渐变深,包裹体数量逐渐增加,晶形由板状转变为塔状直至骸晶。金刚石晶形的变化表明Fe3P的添加使生长金刚石的V形区向右偏移,这是Fe3P改变触媒特性的缘故。红外光谱分析表明,Fe3P的添加使金刚石晶体中氮含量上升,这说明磷的进入诱使氮原子更容易进入金刚石晶格中。激光拉曼光谱测试表明,随着Fe3P添加比例的增加,所合成的掺磷金刚石的拉曼峰位变化不大,其半峰全宽(FWHM)值变大,这说明磷的进入使得金刚石晶格畸变增加。XPS测试结果显示,随着Fe3P添加比例的增加,金刚石晶体中磷相对碳的原子百分含量也会增加,这意味着添加Fe3P所合成的金刚石晶体中有磷存在。  相似文献   
2.
In this paper, a quantum cascade laser (QCL) design is proposed based on GaAs/AlGaAs material system, which simultaneously operates at three widely separated wavelengths (λ1=11.1μm,λ2=14.1μm and λTHz=60μm). In the design, all the wavelength radiations are achieved by the engineering of the electronic spectrum via the quantum-well widths and the applied electric field in a single active region within a same waveguide. The mid-infrared (mid-IR) wavelengths are obtained by adoption a dual-upper-state active region, and the proposed design aims to use both the mid-IR radiations as the coherent deriving fields to populate the upper THz lasing state to aid the THz-laser population inversion via optical pumping instead of direct electrical injection. A detailed analysis of electronic transport in the structure is carried out using a multi-level rate-equation model. The results show that the proposed structure offers an alternative approach to room temperature THz generation in QCLs.  相似文献   
3.
4.
5.
6.
7.
采用溶剂热法,1,3,5-三(羧基甲氧基)苯为定向配体和乙酸镍反应构筑了一个新型的金属配位聚合物[Ni(TB)2(H2O)2]n·2H2O,其中H3TB=1,3,5-三(羧基甲氧基)苯,通过元素分析、IR及X射线单晶衍射对配合物结构进行表征,并研究其荧光性质、热稳定性及Hirshfeld表面作用力。单晶结构分析表明,该配合物属于三斜晶系,空间群$P \overline{1}$,配合物中心离子Ni(Ⅱ)分别与来自两个水分子上的氧原子及四个不同1,3,5-三(羧基甲氧基)苯配体的羧酸氧原子配位,形成六配位的NiO6八面体构型,并通过与1,3,5-三(羧基甲氧基)苯配体的氧原子配位不断延伸形成具有孔洞结构的一维链状构型。配合物具有良好的荧光性能和热稳定性。Hirshfeld表面作用分析表明配合物分子中O…H/H…O作用占主导且占比为39.0%,而H…H的作用力占比为25.9%,O…O的作用力占比为13.6%。  相似文献   
8.
利用标量化方法建立对称向量拟均衡问题有效解的存在性定理。作为标量化方法的应用,利用这一方法得到向量变分不等式和拟向量变分不等式有效解的存在性定理。  相似文献   
9.
10.
Dong-Qing Li 《中国物理 B》2022,31(5):56106-056106
Three-dimensional (3D) TCAD simulations demonstrate that reducing the distance between the well boundary and N-channel metal-oxide semiconductor (NMOS) transistor or P-channel metal-oxide semiconductor (PMOS) transistor can mitigate the cross section of single event upset (SEU) in 14-nm complementary metal-oxide semiconductor (CMOS) bulk FinFET technology. The competition of charge collection between well boundary and sensitive nodes, the enhanced restoring currents and the change of bipolar effect are responsible for the decrease of SEU cross section. Unlike dual-interlock cell (DICE) design, this approach is more effective under heavy ion irradiation of higher LET, in the presence of enough taps to ensure the rapid recovery of well potential. Besides, the feasibility of this method and its effectiveness with feature size scaling down are discussed.  相似文献   
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